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【國美館】2012年數位藝術人才國外駐棧創作,徵選開跑!

為培養國內數位藝術創作人才,提升其國際視野,並活絡台灣與國際間的數位藝術交流互動,與國際數位藝術網絡接軌,依國立台灣美術館「數位藝術人才培育補助作業要點」,藉由公開遴選之機制,補助優秀人才至國外駐棧創作,以提升技術應用與藝術創作之深度與高度,厚植台灣數位藝術發展實力。

投件注意事項

名額:2012年補助1-5名(必要時得予從缺)。 地點:本年度與本館簽約之國外數位藝術機構為荷蘭V2_動態媒體藝術中心(V2_Institute for the Unstable Media)及加拿大SAT科技藝術中心 (Society for Arts and Technology),預計於今年9月開始為期約8至10週之駐棧。 申請對象及條件:(一) 具備中華民國國籍,無兵役或其他法律限制出國者。(二) 以新媒體藝術類為限(含數位藝術、科技藝術),至申請截止日前持續創作兩年以上, 且曾舉辦個展、聯展或聯合演出者。(三) 具備英語或所駐棧國之語言溝通能力者(於「申請資料表」中填列)。(四) 具備與本館簽約之國外數位藝術機構所要求之能力,且創作計畫獲該機構審核同意者。 (五) 符合前述第(一)至(三)項條件,且已獲國外相關機構同意,將於當年度前往該機構駐棧創作者,得向本館申請補助全部或部分經費。 結果公告:預定2012年8月中旬公告評選結果。 預訂於6月中旬舉辦說明會,詳細時間地點請密切注意國美館網站!

聯絡方式

E-mail:

繳交資料寄送地址:國立台灣美術館 40359台中市五權西路一段二號,於信封加註「申請2012年數位藝術人才國外駐棧創作-(署名)」

網址:http://www.ntmofa.gov.tw/

聯絡人:藍小姐 04-23723552 分機711

主辦單位:國立臺灣美術館