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國立臺灣美術館:「2014數位藝術人才國外駐棧創作」徵選

  • 截止日期:2014-06-10
  • 結果公佈日期:2014-06-10
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國立臺灣美術館今年將與荷蘭V2_動態媒體藝術中心、比利時iMAL數位文化與科技中心、西班牙LABoral藝術與創意產業中心合作,將選送優秀數位藝術創作人才赴國外進行8至10週駐棧創作,機會難得,敬請把握!

即日起至2014年6月10日開放申請,本徵選採線上報名,報名及簡章詳情請至台灣數位藝術知識與創作流通平台 http://www.digiarts.org.tw/
補助名額:1-3名(必要時得予從缺)。
駐棧地點及時間:
1. 荷蘭V2_動態媒體藝術中心(V2_Institute for the Unstable Media)7月中起為期8-10週
2. 比利時iMAL數位文化與科技中心(iMAL, interactive Media Art Laboratory, Center for Digital Cultures and Technology)8月中起為期8-10週
3. 西班牙LABoral藝術與創意產業中心(LABoral Centro de Arte y Creación Industrial)8月中起為期8-10週

申請對象及條件:
(一) 具備中華民國國籍,無兵役或其他法律限制出國者。
(二) 以新媒體藝術類為限(含數位藝術、科技藝術),至申請截止日前持續創作兩年以上,且曾舉辦個展、聯展或聯合演出者。
(三) 具備英語或所駐棧國之語言溝通能力者(如有外語能力檢定證明請於「申請資料表」中填列)。
(四) 具備與本館簽約之國外數位藝術機構所要求之能力,且創作計畫獲該機構審核同意者。
(五) 申請前往V2_者,另須配合V2_夏季駐棧計畫之規範,申請者須為至申請截止日止年齡未滿35歲,或自學校畢業五年以內者。
(六) 符合前述(一)至(三)項條件,且已獲國外相關機構同意,將於當年度前往該機構駐站創作者,得向本館申請補助全部或部分經費。

申請方式及結果公告時間:
(一) 申請時間:自2014年5月10日至6月10日24時止,一律採線上報名。請至「台灣數位藝術知識與創作流通平台」網站(http://www.digiarts.org.tw/)進行線上報名程序。資料缺件、逾時或與規定不符者不受理。
(二) 結果公告:預定2014年7月公告評選結果。
*上述時間如有更動,將公告於國立臺灣美術館網站。

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