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双方藝廊

【視.隱】橫溝美由紀個展

  • 展期

    日期:2022-05-07 ~ 2022-06-18

  • 地點

    台北市中山區北安路770巷28號 (双方藝廊)

  • 參展藝術家

    橫溝美由紀

双方藝廊將於2022年5月07日至6月18日推出日本藝術家橫溝美由紀個展-「視.隱」,本展覽為藝術家首度在双方藝廊舉行的個展,共計將展出三十餘件繪畫及裝置作品。本次展出的繪畫作品以畫布為基礎,運用撥彈和緊拉無數線條的方式創作,縱橫重疊的作品就像織布一樣,讓觀者感受到行為和時間的積累。此外,二樓的裝置作品中藝術家使用現成物製作低限裝置,運用極為輕薄的木片將金箔、銀箔鑲於表面,絲綢般的外觀呈現出柔軟且輕盈的姿態,自然光隨著時間變化照映金屬面、捲折空間,展現光影的流動。橫溝美由紀本次將她的創作以「視.隱」為題,呈現給觀眾「看不見,卻存在」的感官體驗。

展名「視.隱」為藝術家所提出的創作概念,身處在資訊氾濫的時代,末日景象般的威脅接踵而至,橫溝美由紀將肉眼無法看見、卻能感受到的無形存在,透過自身視角持續探討創作的可能性。橫溝擅長將時空、光線進行視覺化的詮釋與解讀,更將此概念置換其平面作品。本次展覽中的平面作品原型來自橫溝在2003年於台北國際藝術村駐村期間所創作的裝置作品《red cage》,對於藝術家而言,其處理繪畫的方式是以雕刻的技法呈現,普遍被認知為繪畫的平面作品形式,實為雕刻作品的轉化再構築。橫溝美由紀在經過精密計算的細繩線上塗抹油畫顏料,並以指尖撥動,將繩上的顏料彈射轉移到畫布上,以重複結構與行為來探討空間的能量,成為藝術家的獨特標記。作品畫面中除了精準地保有線條間的密度,也展現了她希望在作品中呈現的「多重簡單性」(multiple-simplicity),並刻意地留下各垂直線條創作中飛濺於畫布上的顏料質地,以強調感受上的「不確定性」(uncertainty),在平面畫布上構築一場多彩的立體展演。

橫溝美由紀,1968年生於日本東京,現今生活及創作於京都。1994年畢業於多摩美術大學美術學部雕刻組。在橫溝的作品中往往可見時間、空間與光線的交互作用。近年來,她一直嘗試在平面畫布上結構出立體空間與裝置性,以此創造嶄新的視覺體驗。於美國、德國、法國、波蘭、韓國及日本各大城市舉辦多次個展及參與聯展,2001年曾代表日本文化廳藝術家身分至紐約研修,2005年曾任日本國際藝術中心第一期研究員,2008年曾參與波蘭波茲南調解雙年展。參與的重要展會包含2017年日本東京興亞美術館「五重奏III五星作家們」、2004-2019年 世界巡迴聯展「往未來的回路−日本新世代藝術家」、2002年 東京都現代美術館「傾斜的小屋」、2021年日本東京Pola Museum of Art Annex舉辦個展等。橫溝也曾於國際上參與許多駐村項目,例如紐約Snug Harbor Cultural Center(2001)、台北國際藝術村(2003)、法國濱海阿爾卑斯省拉納普勒城堡(2004)及洛杉磯18th Street Arts Center(2017)駐村。其作品收藏於許多著名的美術館,如水戸芸術館、 埼玉県立近代美術館、 東京都現代美術館、川村紀念博物館,也獲得日本國際交流基金會、海內外政府單位、知名飯店集團及大型私人企業典藏。

展覽日期:2022.05.07-2022.06.18 (周二-周六, 10:30-18:30)
展覽地點:双方藝廊Double Square Gallery D2 D3
展覽開幕:2022.05.07 (六) 15:00

双方藝廊橫溝美由紀裝置繪畫日本當代藝術

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