隨著數位技術的崛起，傳統技藝的關注度可能逐漸式微，但經典的魅力依舊不可忽視。特別是版畫技術在當代藝術中仍有突破的可能性。本次國際版畫雙年展吸引了眾多國際參賽者，投稿數量較去年顯著增加。雙年展展現了版畫藝術在技術和題材上的創新，讓觀眾重新認識並欣賞這項古老技藝的獨特魅力與價值，同時亦凸顯了版畫在當代藝術中發展的可能性。

文化部所屬國立臺灣美術館主辦「中華民國國際版畫雙年展」，自1983年開始，已經歷41年的歲月，今年邁入第二十一屆，是全球歷史最悠久的國際版畫展之一，持續扮演促進國際藝術文化交流、推廣版畫藝術及鼓勵版畫創作的角色。今（27）日於國美館舉辦頒獎典禮暨開幕式，文化部政務次長李靜慧、國美館長陳貺怡、評審委員及得獎藝術家與入選藝術家出席共襄盛舉。

「中華民國第二十一屆國際版畫雙年展」展出現場。圖 / 國美館提供。

「中華民國第二十一屆國際版畫雙年展」展場一隅。圖 / 國美館提供。
文化部政務次長李靜慧（左8）、國美館長陳貺怡（右9）、評審委員呂燕卿（右3）、評審委員楊明迭（左7）與所有得獎者及與會貴賓合影。圖 / 國美館提供。
所有得獎者及與會貴賓合影。圖 / 國美館提供。
文化部政務次長李靜慧表示，自1983年開始舉辦的國際版畫雙年展已成為世界上歷史最悠久的版畫盛事之一，儘管經歷過主辦單位更替和疫情的影響，這一盛會仍然持續不斷，感謝國內外藝術家的支持與評審委員的辛勞。文化部會持續支持國美館，將這個國際平臺呈現給大家，國際版畫雙年展不僅是臺灣展示自身藝術實力的重要舞臺，更是促進國際文化交流的重要橋樑。
文化部政務次長李靜慧致詞。圖 / 國美館提供。
李靜慧強調，「藝術創作是很在地的，每位藝術家做出來的作品，事實上都會代表著他們生長的地區或國家的文化內涵。但藝術作品也是最國際的，不需要語言與過多解釋，卻能夠讓不同文化背景的人一同感受藝術家們想要傳達的情緒。國際版畫雙年展把藝術作品作為國際交流的重要脈絡是很重要的政策，讓臺灣被看見也讓大家能看到國際。」期盼大家踴躍參與，共同體驗這場跨越國界的夏日藝術饗宴，感受來自世界各地藝術家的獨特視角與創造力。

國美館長陳貺怡表示，感謝颱風期間不辭千里而來的藝術家，以及勞苦高功7位初審委員及5位複審委員，其中包括來自泰國、西班牙與美國的評審。本屆雙年展有幾項指標性數據，例如今年比上一屆多了3個國家，也比上一屆多了約200件作品參賽。參賽作品最多的國家為波蘭，共有131件作品參加；而泰國與日本參賽作品也大幅提高，成長了2倍，顯見各國藝術家對本展的支持與重視。

國美館長陳貺怡致詞。圖 / 國美館提供。
金、銀、銅牌得獎藝術家對於參與「中華民國國際版畫雙年展」表達了深切的感激之情，並特別感謝國美館和評審團的支持與青睞。日本金牌得主安河内裕也（Hiroya YASUKOCHI）表示，「中華民國國際版畫雙年展對於我們全球版畫藝術家來說，是我們的目標也是我們的希望，所以臺灣牽引版畫的未來這說法一點也不為過。」

銀牌得主帕蒂朋．蘇潘朋（Patipon SUPANPONG）說道，「第一次能獲得銀牌獎，我感到非常榮幸，這是我作為藝術家道路上最高的里程碑，讓我有更大的熱情持續創作。」

銅牌得主武藤正悟（Shogo MUTO）則提到，24年前曾來臺參加活動，與臺灣的版畫藝術家進行了深入的交流，那段時光讓他對臺灣的食物與茶留下了深刻印象。
本屆金牌獎安河內裕也致詞。圖 / 國美館提供。

本屆銀牌獎帕蒂朋．蘇潘朋 Patipon SUPANPONG (泰國籍) 致詞。圖 / 國美館提供。

國美館長陳貺怡頒獎給銅牌獎得主武藤正悟Shogo MUTO (日籍) 。圖 / 國美館提供。
國美館表示，「中華民國國際版畫雙年展」在長期不懈耕耘之下，獲得國際版畫藝術家的支持，徵件期間共收到來自82個國家1215位藝術家報名參賽，經初審及複審兩階段評審團審慎地討論與篩選，遴選出共計38國163件展出作品，包含金、銀、銅牌獎各1名、評審團特別獎2名、優選及佳作各5名，共計15件得獎作品脫穎而出。

本屆參賽作品，不論是質量、技法、形式、風格，皆展現多元並蓄的精采風貌。榮獲金牌獎的是來自日本的安河内裕也，作品〈在2022那年之後－囚犯之九〉，對於人類為了發展文明與追求繁榮，同時因爭奪領土和資源而陷入持續的衝突與戰爭，反思人類的歷史與本質。銀牌獎帕蒂朋．蘇潘朋是泰國籍，作品〈記憶中的事物與痕跡之十一〉對自然力量的敬畏和對生命逝去的哀思，也暗示重建與再生的可能。銅牌獎則是由來自日本的武藤正悟獲得，他的作品〈結界〉象徵著現今處於寒冬中的烏克蘭人民，正在期待春天的到來，而藉由暖色調畫面的呈現，寓意春天終將降臨的願景。

金牌獎_安河内裕也_在2022那年之後－囚犯之九。圖 / 國美館提供。

銀牌獎_帕蒂朋．蘇潘朋_記憶中的事物與痕跡之十一。圖 / 國美館提供。

銅牌獎_武藤正悟_結界。圖 / 國美館提供。
初審評審團代表國立清華大學藝術與設計學系兼任教授呂燕卿表示，「本屆優秀版畫藝術家的作品，多聚焦熟練開創版畫的多元媒材技法，建構自我美學無限強度。不但彰顯各國文化特色與版畫創作能量，也可由看出作品的獨特性哲理」。

而初審委員國立臺南大學藝術學院長高實珩亦在評審感言中述及關於本屆作品的主題趨勢，「有一部分作品涉及戰爭陰影與恐懼之內涵，藝術家們透過作品反映現實中的政治衝突與矛盾，將內在不安的狀態以多樣性的藝術語彙呈現出來」，點出藝術家們的選題，反映出在全球疫情及烏克蘭戰爭之後大眾的一些反思與焦點，以及對未來的希望與願景。

評審團特別獎_坎姆魯嘉曼_倖存者。圖 / 國美館提供。

評審團特別獎_克里斯托夫．托馬爾斯基_慣性狀態。圖 / 國美館提供。
本屆複審委員西班牙巴斯克大學版畫系教授大衛．阿特戈伊帝亞（David ARTEAGOITIA）所述，「版畫創作並非單純只是在某個表面上留下刻痕然後將其複製。它更是一種既細緻又狂暴的力量，像是一道傷疤，封存住過去行為的記憶，它要提醒我們的，不僅是已經發生的，更是所有即將發生的」。

優選獎_玉分昭光_ 火與花。圖 / 國美館提供。

優選獎_費南多．卡巴拉．維拉紐瓦_元宇宙。圖 / 國美館提供。

優選獎_托瑪茲．維尼亞斯基_永恆運動：CXII。圖 / 國美館提供。

優選獎_威斯勞・哈拉達_看不見的路徑。圖 / 國美館提供。

優選獎_陳憶誠_連續勞動 1-3②。圖 / 國美館提供。
「中華民國第二十一屆國際版畫雙年展」即日起至10月13日於國美館201-202展覽室展出。同時，為進一步探討本屆得獎作品的藝術內涵，讓大眾對版畫創作有更多的認識，將於明（28）日規劃一場在國美館演講廳舉辦的「藝術家座談會」，邀請國內版畫領域專家學者及本屆得獎藝術家，分享版畫創作理念，討論國際版畫藝術發展的現況。更多活動詳情，歡迎至國美館網站查詢（http://www.ntmofa.gov.tw）。

佳作_維克托．曼努埃爾．埃爾南德斯．卡斯蒂洛_耕作的印痕。圖 / 國美館提供。

佳作_椿一朗_時間之滴。圖 / 國美館提供。

佳作_喬蘭塔．魯茲卡．哈比薩克_ 邁向無限。圖 / 國美館提供。

佳作_田島直樹_飛行計画Ⅲ。圖 / 國美館提供。
佳作_亞爾．布洛特曼_ 細軟之一。圖 / 國美館提供。
「中華民國第二十一屆國際版畫雙年展」
時間：即日起至10月13日，週二至週五09:00-17:00、週六及週日09:00-18:00（每週一休館）
地點：國立臺灣美術館201-202展覽室（臺中市西區五權西路一段2號）